Designgestützte Metrologie mit Grossem Sichtfeld
EP4341893
Art A1
27. März 2024
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4341893
- Aktenzeichen
- EP22879221
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 27. März 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06T7/00G06T7/70G06T7/13G01B11/24G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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