Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht, Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht

EP4343020 Art A1 27. März 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4343020
Aktenzeichen: EP22196803
Anmeldetag: 21. September 2022
Veröffentlichung: 27. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/04G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von