Verfahren und System zur Bestimmung von Aberrationen eines Projektionssystems

EP4350440 Art A1 10. April 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4350440
Aktenzeichen: EP22199929
Anmeldetag: 6. Oktober 2022
Veröffentlichung: 10. April 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G01M11/02G01B9/02098G01J9/02G01M11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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