Trockenätzverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Reinigungsverfahren

EP4354490 Art A1 17. April 2024

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4354490
Aktenzeichen: EP22820135
Anmeldetag: 2. Juni 2022
Veröffentlichung: 17. April 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/302C23F1/12H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Resonac Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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