Verfahren und Vorrichtung zur Partikelstrahlinduzierten Behandlung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske

EP4356197 Art A1 24. April 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4356197
Aktenzeichen: EP22737397
Anmeldetag: 15. Juni 2022
Veröffentlichung: 24. April 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/74G03F1/72G03F1/80C23F1/12C23F4/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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