Lithographische Vorrichtung, Substrattisch und Herstellungsverfahren

EP4359868 Art A1 1. Mai 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4359868
Aktenzeichen: EP22736164
Anmeldetag: 13. Juni 2022
Veröffentlichung: 1. Mai 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F7/20H10P72/00H10P72/76

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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