Verfahren zur Optimierung eines Parameters, der in einem Halbleiterherstellungsverfahren mit einem Lithografieschritt Angewandt Wird

EP4372468 Art A1 22. Mai 2024

Anmelder: Imec VZW 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4372468
Aktenzeichen: EP22208685
Anmeldetag: 21. November 2022
Veröffentlichung: 22. Mai 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Imec VZW
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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