Silphenylenskeletthaltiges Polymer, Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Strukturbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Halbleiterbauelements
EP4386037
Art A1
19. Juni 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4386037
- Aktenzeichen
- EP22855730
- Anmeldetag
- 9. Juni 2022
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/60C08G59/02C08G77/14C08G77/52C08G77/54G03F7/004G03F7/075G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
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Mewburn Ellis LLP · München