Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung des Sputtertargets

EP4386108 Art A1 19. Juni 2024

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4386108
Aktenzeichen: EP22855731
Anmeldetag: 10. Juni 2022
Veröffentlichung: 19. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C22C9/06C22C21/06C23C14/34H01J37/34B23K20/02B23K20/233C22C9/00C22F1/04C22F1/08C22F1/18C22F1/047B23K103/12B23K103/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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