Lithographischer Apparat und Zugehöriges Verfahren

EP4386479 Art A1 19. Juni 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4386479
Aktenzeichen: EP22212833
Anmeldetag: 12. Dezember 2022
Veröffentlichung: 19. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von