Epitaktische Quelle oder Drain Bereich mit Umhülltem Leitendem Kontakt

EP4386851 Art A1 19. Juni 2024

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4386851
Aktenzeichen: EP23200754
Anmeldetag: 29. September 2023
Veröffentlichung: 19. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L29/06H01L29/08H01L29/417H01L29/423H01L29/66H01L29/775// H01L29/10H01L29/161

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.628 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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