Verfahren zur Nichtlinearen Optischen Messung von Parametern

EP4414783 Art A1 14. August 2024

Anmelder: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten, Stichting VU, Universiteit van Amsterdam, ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4414783
Aktenzeichen: EP23155835
Anmeldetag: 9. Februar 2023
Veröffentlichung: 14. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G01B11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten
Stichting VU
Universiteit van Amsterdam
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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