Elektronenmikroskop, Aberrationskorrekturverfahren und Bildgebungsverfahren

EP4415021 Art B1 5. März 2025

Anmelder: JEOL Ltd., Jeol Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4415021
Aktenzeichen
EP24156063
Anmeldetag
6. Februar 2024
Veröffentlichung
5. März 2025
Erteilung
5. März 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/22
Offizieller Volltext

Abstract

An electron microscope (100) includes an electron optical system (20, 40), and a control unit (60) that controls the electron optical system (20, 40), the control unit (60) performing: processing for determining a standard deviation of a brightness distribution of an electron microscope image; processing for determining an optimum value of a parameter of the electron optical system (20, 40) such that the standard deviation becomes the maximum, by Gaussian process regression; and processing for capturing the electron microscope image with setting a value of the parameter to the optimum value, and the control unit (60) repeating the processing for determining the standard deviation, the processing for determining the optimum value, and the processing for capturing the electron microscope image to determine a value of the parameter.

Anmelder

Firmen
JEOL Ltd.
Jeol Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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