Elektronenmikroskop, Aberrationskorrekturverfahren und Bildgebungsverfahren
Anmelder: JEOL Ltd., Jeol Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4415021
- Aktenzeichen
- EP24156063
- Anmeldetag
- 6. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 5. März 2025
- Erteilung
- 5. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/22
Abstract
An electron microscope (100) includes an electron optical system (20, 40), and a control unit (60) that controls the electron optical system (20, 40), the control unit (60) performing: processing for determining a standard deviation of a brightness distribution of an electron microscope image; processing for determining an optimum value of a parameter of the electron optical system (20, 40) such that the standard deviation becomes the maximum, by Gaussian process regression; and processing for capturing the electron microscope image with setting a value of the parameter to the optimum value, and the control unit (60) repeating the processing for determining the standard deviation, the processing for determining the optimum value, and the processing for capturing the electron microscope image to determine a value of the parameter.
Anmelder
- Firmen
- JEOL Ltd.
Jeol Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.
288 Patente in unserer Datenbank