Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungssystem

EP4418307 Art A1 21. August 2024

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4418307
Aktenzeichen: EP22883371
Anmeldetag: 6. Oktober 2022
Veröffentlichung: 21. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H10P50/00H10P52/00H10P74/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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