Membran für die Membran einer Lithographischen Vorrichtung

EP4419966 Art A1 28. August 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4419966
Aktenzeichen: EP22800236
Anmeldetag: 7. Oktober 2022
Veröffentlichung: 28. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von