Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle

EP4432007 Art A1 18. September 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4432007
Aktenzeichen: EP23161377
Anmeldetag: 13. März 2023
Veröffentlichung: 18. September 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/35G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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