Verfahren zum Plasmaätzen einer Schicht auf Basis eines Iii-N-Materials
Anmelder: Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives, LAM Research Corporation, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4441778
- Aktenzeichen
- EP22818838
- Anmeldetag
- 22. November 2022
- Veröffentlichung
- 9. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
LAM Research Corporation
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Land
- 🇫🇷 Frankreich
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.980 Patente in unserer Datenbank
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.726 Patente in unserer Datenbank
Die Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives (CEA) ist eine französische staatliche Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt Kernenergie, alternative Energien und Grundlagenforschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Software, Energietechnik und Werkstoffkunde. Anmeldungen sind seit 2000 durchgehend belegt.
8.393 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Hautier IP
Hautier IP · Nice