Blende und Verfahren

EP4445187 Art A1 16. Oktober 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4445187
Aktenzeichen
EP22830855
Anmeldetag
7. Dezember 2022
Veröffentlichung
16. Oktober 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/00G02B27/10G03F7/20G21K1/00G02B27/62G02B7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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