Verfahren zur 3D-Volumeninspektion von Halbleiterwafern mit Erhöhtem Durchsatz

EP4453658 Art A1 30. Oktober 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4453658
Aktenzeichen: EP22834979
Anmeldetag: 9. Dezember 2022
Veröffentlichung: 30. Oktober 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G06T7/00H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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