Strahlungsmusterformung eines Strahlungselements durch ein Gehäusemodell mit Ablenkungswellenmerkmalen

EP4456328 Art A1 30. Oktober 2024

Anmelder: Aptiv Technologies AG 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4456328
Aktenzeichen
EP23170761
Anmeldetag
28. April 2023
Veröffentlichung
30. Oktober 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01Q15/18H01Q15/14H01Q1/32H01Q19/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Aptiv Technologies AG
Land
🇨🇭 Schweiz
🇨🇭 Aptiv

Technologieunternehmen der Automobilzulieferindustrie mit Sitz in der Schweiz, das elektrische Architekturen, Sensorik, Software und vernetzte Systeme für Fahrzeuge entwickelt.

1.951 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen