Strahlungsmusterformung eines Strahlungselements durch ein Gehäusemodell mit Ablenkungswellenmerkmalen
EP4456328
Art A1
30. Oktober 2024
Anmelder: Aptiv Technologies AG 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4456328
- Aktenzeichen
- EP23170761
- Anmeldetag
- 28. April 2023
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01Q15/18H01Q15/14H01Q1/32H01Q19/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Aptiv Technologies AG
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇨🇭
Aptiv
Technologieunternehmen der Automobilzulieferindustrie mit Sitz in der Schweiz, das elektrische Architekturen, Sensorik, Software und vernetzte Systeme für Fahrzeuge entwickelt.
1.951 Patente in unserer Datenbank