Pellikel und Membranen zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät

EP4483242 Art A1 1. Januar 2025

Anmelder: UNIVERSITEIT TWENTE, ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4483242
Aktenzeichen: EP23700139
Anmeldetag: 10. Januar 2023
Veröffentlichung: 1. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: UNIVERSITEIT TWENTE
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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