Integrierte Schaltungsstruktur mit Differenziertem Zugriff auf die Rückseite von Source- oder Drainkontakt
EP4485520
Art A1
1. Januar 2025
Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4485520
- Aktenzeichen
- EP23217550
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8234H01L27/088H01L29/775// H01L29/417H01L29/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- INTEL Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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