Objektträger mit einer Mehrere Stützelemente Aufweisenden Auflagefläche oder Optisches Element für eine Lithographische Vorrichtung, mit einer Metall-Si-Mehrschicht, einer Metall-Ge-Mehrschicht Und/oder einer Chromnitridschicht zu Selektiver Veränderung der Höhe Individueller Stützelemente oder der Gestalt des Optischen Elements in einer Thermischen Behandlung und Verfahren zur Korrektur der Flachheit einer Oberfläche des Objektträgers oder des Optischen Elements
EP4488758
Art A1
8. Januar 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4488758
- Aktenzeichen
- EP23183500
- Anmeldetag
- 5. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/687G02B5/08G02B26/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven