Optische Anordnung zur Verwendung in einer Belichtungsvorrichtung mit in Entgegengesetzte Richtungen Beweglichen Teil einer Optischen Scananordnung und Maskentischanordnung sowie Entsprechendes Verfahren zum Belichten eines Schaltungsmusters auf einem Substrat

EP4495692 Art A1 22. Januar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4495692
Aktenzeichen: EP23186771
Anmeldetag: 20. Juli 2023
Veröffentlichung: 22. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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