Substratbehandlungsverfahren und Verfahren zur Beurteilung einer Behandlungsflüssigkeit

EP4495979 Art A1 22. Januar 2025

Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4495979
Aktenzeichen: EP23770779
Anmeldetag: 14. März 2023
Veröffentlichung: 22. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H10P70/00H10P72/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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