Verfahren zum Bewerten eines Sic-Substrats, Verfahren zum Herstellen eines Sic-Substrats und Sic-Substratbewertungsvorrichtung
EP4497855
Art A1
29. Januar 2025
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4497855
- Aktenzeichen
- EP24190214
- Anmeldetag
- 23. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/36G01B15/08G06T7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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