System und Verfahren zur Substratausrichtung mit Bildstitching mit Positionierungsfehlerbestimmung und -Korrektur

EP4498164 Art A1 29. Januar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4498164
Aktenzeichen: EP23187158
Anmeldetag: 24. Juli 2023
Veröffentlichung: 29. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F9/00G03F7/20G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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