Herstellungsverfahren für Siliciumcarbid-Leistungsbauelemente mit Variabler Dotierungsdichte
EP4503137
Art A1
5. Februar 2025
Anmelder: STMicroelectronics International N.V. 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4503137
- Aktenzeichen
- EP24191703
- Anmeldetag
- 30. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/08H01L21/04H01L29/10H01L29/78H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics International N.V.
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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Vertreten von
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Studio Torta S.p.A · Treviso