Anwendung einer Ald- oder Pecvd-Schutzschicht auf einem Halbleiterchip, der über eine Sinterschicht mit einem Substrat Verbunden Ist
EP4510179
Art A1
19. Februar 2025
Anmelder: Infineon Technologies Austria AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4510179
- Aktenzeichen
- EP23191961
- Anmeldetag
- 17. August 2023
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/00H01L23/29H01L23/373H01L23/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies Austria AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇦🇹
Infineon Technologies Austria
Österreichische Konzerngesellschaft des deutschen Halbleiterherstellers Infineon mit Sitz in Villach. Entwickelt und fertigt Halbleiterbauelemente für Automobil-, Energie- und Industrieanwendungen.
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