Sic-Substrat und Sic-Epitaxialwafer

EP4512941 Art A1 26. Februar 2025

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4512941
Aktenzeichen: EP24196030
Anmeldetag: 22. August 2024
Veröffentlichung: 26. Februar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C30B23/02C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Resonac Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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