Halbleiteranordnung mit Verbessertem Abschlussbereich, sowie Entsprechendes Herstellungsverfahren und Leistungsanordnung

EP4513566 Art A1 26. Februar 2025

Anmelder: Nexperia B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4513566
Aktenzeichen
EP23193449
Anmeldetag
25. August 2023
Veröffentlichung
26. Februar 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/06H01L23/31H01L29/16H01L29/861H01L29/872H01L21/329H01L29/78H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

A semiconductor device, comprising a semiconductor body comprising a semiconductor substrate and an epitaxial layer formed on the semiconductor substrate, said epitaxial layer being of the first conductivity type, and wherein an active area and a termination area adjacent the active area are arranged in the epitaxial layer, wherein said termination area comprises a plurality of laterally spaced apart first regions, said first regions being of the second conductivity type opposite to said first conductivity type, each of said plurality of first regions enclosing, observed from a top view of said semiconductor device, said active area and one or more second regions, wherein said second regions are comprised in between said plurality of spaced apart first regions, respectively, wherein said one or more second regions extend further into said epitaxial layer than said plurality of spaced apart first regions, and wherein said one or more second regions comprise an insulation material for insulating said plurality of spaced apart first regions from one another.

Anmelder

Firma
Nexperia B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 Nexperia

Der Anmelder ist ein niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Nijmegen, der als Ausgründung aus NXP Semiconductors hervorging. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter- und Elektrobauelemente, ergänzt durch Elektronik, Schaltungstechnik und elektrische Energietechnik. Anmeldungen laufen seit 2009 durchgehend fort.

458 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen