3D-Profilometrie mit einem Linnik-Interferometer

EP4515175 Art A1 5. März 2025

Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4515175
Aktenzeichen
EP23850596
Anmeldetag
21. Juli 2023
Veröffentlichung
5. März 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G01B11/24G01B11/25G01B9/02G01B9/04G03F7/20H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

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