Verfahren und Systeme für Scatterometriebasierte Metrologie von auf Transparenten Substraten Hergestellten Strukturen
EP4515208
Art A2
5. März 2025
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4515208
- Aktenzeichen
- EP23904349
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 5. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/21G01N21/94G01N21/956G01B11/06G03F7/20G01N21/17
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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