Schnittstellenbasierte Dünnschichtmetrologie unter Verwendung der Erzeugung der Zweiten Harmonischen
EP4515214
Art A1
5. März 2025
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4515214
- Aktenzeichen
- EP23898512
- Anmeldetag
- 1. November 2023
- Veröffentlichung
- 5. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/84G01N21/63G01N21/88G01B11/06G01B11/30G01R29/24G01R31/265
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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