Verfahren zur Bestimmung einer Belichtungsstrategie, Lithographieverfahren und -Vorrichtung sowie Computerprogramm

EP4517424 Art A1 5. März 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4517424
Aktenzeichen: EP23193729
Anmeldetag: 28. August 2023
Veröffentlichung: 5. März 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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