Verfahren zur Optimierung der Wartung eines Lithographischen Apparates

EP4526735 Art A1 26. März 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4526735
Aktenzeichen: EP23717974
Anmeldetag: 12. April 2023
Veröffentlichung: 26. März 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G06Q10/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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