Zinnverbindungen mit einer Zinn-Sauerstoff-Doppelbindung, Diese Enthaltende Photoresistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Photoresistmusters unter Verwendung Derselben

EP4527842 Art A3 11. Juni 2025

Anmelder: Industry Foundation of Chonnam National University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4527842
Aktenzeichen: EP24201655
Anmeldetag: 20. September 2024
Veröffentlichung: 11. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C07F7/22G03F7/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Industry Foundation of Chonnam National University
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Industry Foundation of Chonnam National University

Die Industry Foundation of Chonnam National University ist die Technologietransfer-Einrichtung der Chonnam National University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma- und Biotechnologie, mit weiteren Schwerpunkten in Nahrungsmitteltechnik und organischer Chemie. Anmeldungen reichen von 2005 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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