Passive Staubfalle, Beleuchtungssystem und Lithografiesystem

EP4532075 Art A1 9. April 2025

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4532075
Aktenzeichen: EP23718894
Anmeldetag: 28. März 2023
Veröffentlichung: 9. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: B01D45/06G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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