System mit Fokussiertem Ionenstrahl

EP4542619 Art A3 11. Juni 2025

Anmelder: Jeol Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4542619
Aktenzeichen: EP24201693
Anmeldetag: 20. September 2024
Veröffentlichung: 11. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/305H01J37/28H01J37/08H01J37/02H01J37/244

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Jeol Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

520 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von