Lithographischer Dehnungsmesser in einem Elektrisch Leitenden Substrat

EP4544276 Art A1 30. April 2025

Anmelder: Microsoft Technology Licensing, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4544276
Aktenzeichen: EP23730246
Anmeldetag: 10. Mai 2023
Veröffentlichung: 30. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G01L1/22H01L23/32G01M5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Microsoft Technology Licensing, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Microsoft

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Redmond, Washington, gegründet 1975. Entwickelt Betriebssysteme, Software, Cloud-Dienste und Hardware, darunter Windows, Office und Azure.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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