Verfahren zur Behandlung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske

EP4546047 Art A1 30. April 2025

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4546047
Aktenzeichen: EP24206454
Anmeldetag: 14. Oktober 2024
Veröffentlichung: 30. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/74G03F1/84H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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