Seitenwandwinkelmetrologie

EP4550047 Art A1 7. Mai 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4550047
Aktenzeichen
EP23207692
Anmeldetag
3. November 2023
Veröffentlichung
7. Mai 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

There is provided a method for determining angular information of one or more structures comprising: illuminating a first surface portion of said one or more structures with an illumination beam and measuring radiation scattered therefrom to determine a first signal; determining a first asymmetry metric value describing degree of asymmetry of the first signal; and determining the angular information based on at least the first asymmetry metric value, wherein the illumination beam comprises a spot size smaller in at least one dimension of a smallest element of the first surface portion.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen