In-Situ-Plasmabehandlung vor AL2O3-Abscheidung für Verbesserte Ron

EP4550977 Art A1 7. Mai 2025

Anmelder: STMicroelectronics International N.V. 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4550977
Aktenzeichen: EP24315479
Anmeldetag: 17. Oktober 2024
Veröffentlichung: 7. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H10D30/01H01L21/30H10D30/47H10D62/17H10D64/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: STMicroelectronics International N.V.
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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