Lithographiemaske für Extreme Ultraviolettstrahlung
EP4553575
Art A1
14. Mai 2025
Anmelder: Imec VZW 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4553575
- Aktenzeichen
- EP23209193
- Anmeldetag
- 10. November 2023
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/54G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Imec VZW
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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