Fokusmetrologieverfahren und Verfahren zum Entwurf eines Fokusziels für Fokusmetrologie

EP4553579 Art A1 14. Mai 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4553579
Aktenzeichen: EP23208139
Anmeldetag: 7. November 2023
Veröffentlichung: 14. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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