Substrathalter, Lithografische Vorrichtung, Computerprogramm und Verfahren

EP4555383 Art A1 21. Mai 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4555383
Aktenzeichen: EP23731550
Anmeldetag: 31. Mai 2023
Veröffentlichung: 21. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00H01L21/673H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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