Verfahren und System zur Feinfokussierung Sekundärer Strahlpunkte auf einem Detektor für Mehrstrahlinspektionsvorrichtung

EP4555550 Art A1 21. Mai 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4555550
Aktenzeichen: EP23741378
Anmeldetag: 11. Juli 2023
Veröffentlichung: 21. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/21H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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