Vorrichtung und Verfahren zur Projektion mehrerer Geladener Teilchenstrahlen

EP4560682 Art A1 28. Mai 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4560682
Aktenzeichen: EP23211553
Anmeldetag: 22. November 2023
Veröffentlichung: 28. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/147H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von