Trockenätzverfahren, Reinigungsverfahren und Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelement
EP4560683
Art A1
28. Mai 2025
Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4560683
- Aktenzeichen
- EP23842948
- Anmeldetag
- 18. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 28. Mai 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/302C23F1/12H01L21/3065C23G5/00C23C16/44H01L21/306H01L21/3213H01L21/465
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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