Trockenätzverfahren, Reinigungsverfahren und Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelement

EP4560683 Art A1 28. Mai 2025

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4560683
Aktenzeichen
EP23842948
Anmeldetag
18. Juli 2023
Veröffentlichung
28. Mai 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/302C23F1/12H01L21/3065C23G5/00C23C16/44H01L21/306H01L21/3213H01L21/465
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Central Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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