Verfahren zur Herstellung einer Dotierten Halbleitermaterialschicht auf einem Substrat

EP4562231 Art A1 4. Juni 2025

Anmelder: UNIVERSITE DE BORDEAUX, Institut Polytechnique de Bordeaux, Centre National de la Recherche Scientifique 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4562231
Aktenzeichen: EP23751056
Anmeldetag: 25. Juli 2023
Veröffentlichung: 4. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C30B7/02C30B29/12C30B33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: UNIVERSITE DE BORDEAUX
Institut Polytechnique de Bordeaux
Centre National de la Recherche Scientifique
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

Französische staatliche Forschungsorganisation mit Sitz in Paris. Betreibt Grundlagen- und angewandte Forschung in nahezu allen wissenschaftlichen Disziplinen über zahlreiche Institute und Labore.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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